用于去除光刻设备的无盖层的多层反射镜上的沉积物的方法、光刻设备以及器件制造方法

摘要

一种用于去除在设备的无盖层多层反射镜上的沉积物的方法。所述方法包括：在所述设备的至少一部分内提供气体的步骤，所述气体包括H₂、D₂和HD中的一种或多种以及选自碳氢化合物和/或硅烷化合物的一种或多种附加的化合物；从所述气体产生氢和/或氘自由基和所述一种或多种附加的化合物的自由基的步骤；和使得具有沉积物的所述无盖层多层反射镜与氢和/或氘自由基和所述一种或多种附加的化合物的自由基中的至少一部分接触，以便去除沉积物的至少一部分。

主权项

一种用于去除在设备的无盖层Mo/Si多层反射镜上的沉积物的方法，其特征在于，包括步骤：在所述设备的至少一部分内提供气体，所述气体包括H₂、D₂和HD中的一种或多种以及选自碳氢化合物和/或硅烷化合物中的一种或多种附加的化合物；从所述气体产生氢和/或氘自由基以及所述一种或多种附加的化合物的自由基；和使得具有沉积物的所述无盖层Mo/Si多层反射镜与氢和/或氘自由基以及所述一种或多种附加的化合物的自由基中的至少一部分接触，以便去除沉积物的至少一部分以使无盖层Mo/Si多层反射镜被清洁。