| 发明名称 | 改善磁控溅射气场均匀性装置及其操作方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种改善磁控溅射气场均匀性装置及其操作方法，包括相互平行设置的第一辅气进气管和第二辅气进气管，所述第一辅气进气管和第二辅气进气管上分别具有若干个出气段，第一辅气进气管上的每个出气段通过一根输气管路连接到第一均化器上，第二辅气进气管上的每个出气段通过一根输气管路连接到第二均化器上，所述第一均化器和第二均化器分别连接储气装置。本发明对磁控溅射腔体内的气体场浓度的调节精度高，操作简单，可实现遥控调节。 | ||
| 申请公布号 | CN103757593A | 申请公布日期 | 2014.04.30 |
| 申请号 | CN201410008952.8 | 申请日期 | 2014.01.06 |
| 申请人 | 天津南玻节能玻璃有限公司 | 发明人 | 王勇;刘正庆;宋宇;李阳;童帅 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/35(2006.01)I |
| 代理机构 | 天津滨海科纬知识产权代理有限公司 12211 | 代理人 | 韩敏 |
| 主权项 | 一种改善磁控溅射气场均匀性装置，在磁控溅射腔体内设置有主气进气管、辅气进气管组，其特征在于：所述辅气进气管组包括相互平行设置的第一辅气进气管和第二辅气进气管，所述第一辅气进气管和第二辅气进气管上分别具有若干个出气段，第一辅气进气管上的每个出气段通过一根输气管路连接到第一均化器上，第二辅气进气管上的每个出气段通过一根输气管路连接到第二均化器上，所述第一均化器和第二均化器分别连接储气装置。 | ||
| 地址 | 301700 天津市武清区新技术产业园区武清开发区泉丰路12号 | ||