发明名称 |
Plasmaerzeugungsvorrichtungsanordnung, Lichtbogenabschwächungsvorrichtung und Verfahren zum Aufbau einer Plasmaerzeugungsvorrichtungsanordnung |
摘要 |
Eine Plasmaerzeugungsvorrichtungsanordnung (302) enthält eine Basis (303), die einen inneren Bereich und eine obere Fläche (310) enthält, die mehrere Öffnungen (328) definiert, die sich durch die obere Fläche hindurch erstrecken. Die Plasmaerzeugungsvorrichtungsanordnung enthält ferner eine Plasmaerzeugungsvorrichtung (206) und mehrere Koppelelemente (326). Die Plasmaerzeugungsvorrichtung ist an der oberen Fläche positioniert und konfiguriert, um ablatives Plasma auszusenden, wenn die Plasmaerzeugungsvorrichtung aktiviert ist. Die mehreren Koppelelemente erstrecken sich durch die mehreren Öffnungen hindurch und sind konfiguriert, um die Plasmaerzeugungsvorrichtung mit der oberen Fläche zu koppeln. |
申请公布号 |
DE102013111929(A1) |
申请公布日期 |
2014.04.30 |
申请号 |
DE201310111929 |
申请日期 |
2013.10.29 |
申请人 |
GENERAL ELECTRIC COMPANY |
发明人 |
PALVADI, SRINIVAS NAGA;BARHLA, OHARAMVEER SURYA PARKASH;KUMAR, RAVI |
分类号 |
H05H1/32;H01J37/34;H05H1/34;H05H1/42 |
主分类号 |
H05H1/32 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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