发明名称 |
偏振膜的制造方法 |
摘要 |
本发明的偏振膜的制造方法,其特征在于,对聚乙烯醇系膜至少实施溶胀处理、染色处理、交联处理、拉伸处理及洗涤处理,所述交联处理后的至少一个处理中,以满足下式(1)的方式使处理液含有水溶性抗氧化剂。0.0005≤A×B≤0.03(1)〔式中,A为处理浴中的水溶性抗氧化剂的浓度(mol/L),B为将碘还原为碘离子的水溶性抗氧化剂的还原力。〕根据本发明的制造方法,可以提供高对比度、且能够防止短波长区域中的漏光的产生的偏振特性优异的偏振膜。 |
申请公布号 |
CN103765259A |
申请公布日期 |
2014.04.30 |
申请号 |
CN201280042812.1 |
申请日期 |
2012.09.12 |
申请人 |
日东电工株式会社 |
发明人 |
矢仙姆尼里汀;尾込大介;济木雄二 |
分类号 |
G02B5/30(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I |
主分类号 |
G02B5/30(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
蒋亭 |
主权项 |
一种偏振膜的制造方法,其对聚乙烯醇系膜至少实施溶胀处理、染色处理、交联处理、拉伸处理及洗涤处理,其特征在于,在所述染色处理后的至少一个处理中,以满足下式(1)的方式使处理液含有水溶性抗氧化剂,0.0005≤A×B≤0.03 (1),上式中,A为处理浴中的水溶性抗氧化剂的浓度(mol/L),B为将碘还原为碘离子的水溶性抗氧化剂的还原力。 |
地址 |
日本大阪府 |