发明名称 偏振膜的制造方法
摘要 本发明的偏振膜的制造方法,其特征在于,对聚乙烯醇系膜至少实施溶胀处理、染色处理、交联处理、拉伸处理及洗涤处理,所述交联处理后的至少一个处理中,以满足下式(1)的方式使处理液含有水溶性抗氧化剂。0.0005≤A×B≤0.03(1)〔式中,A为处理浴中的水溶性抗氧化剂的浓度(mol/L),B为将碘还原为碘离子的水溶性抗氧化剂的还原力。〕根据本发明的制造方法,可以提供高对比度、且能够防止短波长区域中的漏光的产生的偏振特性优异的偏振膜。
申请公布号 CN103765259A 申请公布日期 2014.04.30
申请号 CN201280042812.1 申请日期 2012.09.12
申请人 日东电工株式会社 发明人 矢仙姆尼里汀;尾込大介;济木雄二
分类号 G02B5/30(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I 主分类号 G02B5/30(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 蒋亭
主权项 一种偏振膜的制造方法,其对聚乙烯醇系膜至少实施溶胀处理、染色处理、交联处理、拉伸处理及洗涤处理,其特征在于,在所述染色处理后的至少一个处理中,以满足下式(1)的方式使处理液含有水溶性抗氧化剂,0.0005≤A×B≤0.03  (1),上式中,A为处理浴中的水溶性抗氧化剂的浓度(mol/L),B为将碘还原为碘离子的水溶性抗氧化剂的还原力。
地址 日本大阪府