一种化学气相沉积装置及基片托盘和旋转轴

摘要

本实用新型公开了一种化学气相沉积装置，包括一处理腔室，所述处理腔室内设置一旋转轴和放置在所述旋转轴上的基片托盘，通过在旋转轴的连接头支撑部支撑面或外周面设置凹陷部，在基片托盘的下表面设置凹槽，凹槽内设置凸起部与连接头支撑部设置的凹陷部相吻合，保证基片托盘与旋转轴同步运动。通过对处理腔室外旋转轴旋转位置进行监控，可以获知当前托盘的旋转位置，从而对托盘上的特殊位置进行定位并采集信息。

主权项

一种化学气相沉积装置，包括一处理腔室，其特征在于：所述处理腔室内包括：一旋转轴，所述旋转轴包括旋转主轴和位于旋转主轴上方的连接头支撑部，所述连接头支撑部包括一支撑面和一外周面，所述支撑面或所述外周面上设有凹陷部；一基片托盘，所述基片托盘包括一上表面和一下表面，所述下表面上设置有向所述基片托盘内部凹陷延伸的凹槽，所述凹槽内包括一凹槽面以及自所述凹槽面向所述下表面方向突起并延伸一定长度的凸起部，所述凸起部的形状和大小设置为可至少部分地容纳于所述旋转轴的凹陷部内；所述基片托盘可分离地放置在所述连接头支撑部上，在此位置下，所述旋转轴的连接头支撑部插接于所述基片托盘的凹槽内，并且所述支撑面与所述凹槽面相接触以支撑所述基片托盘，所述凹陷部与所述凸起部相互卡接或抵靠，以产生一力量以带动或推动所述旋转轴和所述基片托盘共同旋转。