发明名称 Vorrichtung zum Behandeln von Substraten mit einer auswechselbaren Deckenplatte sowie Verfahren zum Auswechseln einer derartigen Deckenplatte
摘要 Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Behandeln von Substraten (21) mit einem Reaktorgehäuse (1), einer im Reaktorgehäuse (1) angeordneten Prozesskammer (2), mit einer Prozesskammerdecke, die eine mittels Befestigungsmitteln (9, 17) lösbar am Reaktorgehäuse (1), insbesondere an einem Deckenhalter (6) befestige Deckenplatte (5) aufweist, die nach einer vertikalen Abwärtsverlagerung durch eine seitliche Öffnung (15) des Reaktorgehäuses (1) ausgetauscht werden kann, mit einem Prozesskammerboden, dem ein Träger (3) zugeordnet ist, der um eine vertikale Drehachse (D) drehbar und in Richtung der Drehachse (D) auf die Deckenplatte (5) anhebbar und in Gegenrichtung absenkbar ist. Um n den Austausch einer Deckenplatte zu automatisieren, wird vorgeschlagen, dass der Träger (3) so ausgebildet ist, dass er die Deckenplatte (5) tragend zwischen einer angehobenen Stellung, in welcher die Befestigungsmittel (9, 17) an der Deckenplatte (5) angreifen, und einer abgesenkten Stellung, in welcher die Deckenplatte (5) von den Befestigungsmitteln (9, 17) gelöst aus der Prozesskammer (2) entnehmbar ist, hin und her verlagerbar ist. Außerdem betrifft die Erfindung ein Verfahren zum Auswechseln einer Deckenplatte (5) in einer Vorrichtung.
申请公布号 DE102012110125(A1) 申请公布日期 2014.04.24
申请号 DE201210110125 申请日期 2012.10.24
申请人 AIXTRON SE 发明人 WILSON, PAUL
分类号 C23C16/44;C23C16/455 主分类号 C23C16/44
代理机构 代理人
主权项
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