发明名称 一种差分的浮栅型DRAM存储单元
摘要 本发明公开了一种差分的浮栅型DRAM存储单元,包括单管浮栅动态存储单元晶体管M1和单管浮栅动态存储单元晶体管M2,M1和M2的上面是源线SL控制电路模块,M1和M2的下面是位线BL控制电路模块和灵敏放大电路模块,M1和M2的源极分别作为存储单元的两根源线SL1和SL2;M1和M2的漏极分别作为存储单元的两根位线BL1和BL2;M1和M2的第二层栅极作为存储单元的控制栅CG1和CG2。本发明的工艺和单管浮栅动态存储器的工艺一样,设计难度小,设计成本低;采用差分输入方案,不需要设计复杂度灵敏性很高的基准参考电路,差分输入可以扩大了读操作时的可区分电流范围,读操作可靠性得到明显增强。
申请公布号 CN103745742A 申请公布日期 2014.04.23
申请号 CN201310723105.5 申请日期 2013.12.25
申请人 苏州宽温电子科技有限公司 发明人 李力南;翁宇飞
分类号 G11C11/4063(2006.01)I 主分类号 G11C11/4063(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种差分的浮栅型DRAM存储单元,其特征在于:包括单管浮栅动态存储单元晶体管M1和单管浮栅动态存储单元晶体管M2,所述晶体管M1和晶体管M2的上面是源线SL控制电路模块,所述晶体管M1和晶体管M2的下面是位线BL控制电路模块和灵敏放大电路模块,所述晶体管M1和所述晶体管M2的源极分别作为存储单元的两根源线SL1和SL2;所述晶体管M1和所述晶体管M2的漏极分别作为存储单元的两根位线BL1和BL2;所述晶体管M1和所述晶体管M2的第二层栅极作为存储单元的控制栅CG1和CG2。
地址 215000 江苏省苏州市吴中区木渎镇中山东路70号2307室