发明名称 |
一种差分的浮栅型DRAM存储单元 |
摘要 |
本发明公开了一种差分的浮栅型DRAM存储单元,包括单管浮栅动态存储单元晶体管M1和单管浮栅动态存储单元晶体管M2,M1和M2的上面是源线SL控制电路模块,M1和M2的下面是位线BL控制电路模块和灵敏放大电路模块,M1和M2的源极分别作为存储单元的两根源线SL1和SL2;M1和M2的漏极分别作为存储单元的两根位线BL1和BL2;M1和M2的第二层栅极作为存储单元的控制栅CG1和CG2。本发明的工艺和单管浮栅动态存储器的工艺一样,设计难度小,设计成本低;采用差分输入方案,不需要设计复杂度灵敏性很高的基准参考电路,差分输入可以扩大了读操作时的可区分电流范围,读操作可靠性得到明显增强。 |
申请公布号 |
CN103745742A |
申请公布日期 |
2014.04.23 |
申请号 |
CN201310723105.5 |
申请日期 |
2013.12.25 |
申请人 |
苏州宽温电子科技有限公司 |
发明人 |
李力南;翁宇飞 |
分类号 |
G11C11/4063(2006.01)I |
主分类号 |
G11C11/4063(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种差分的浮栅型DRAM存储单元,其特征在于:包括单管浮栅动态存储单元晶体管M1和单管浮栅动态存储单元晶体管M2,所述晶体管M1和晶体管M2的上面是源线SL控制电路模块,所述晶体管M1和晶体管M2的下面是位线BL控制电路模块和灵敏放大电路模块,所述晶体管M1和所述晶体管M2的源极分别作为存储单元的两根源线SL1和SL2;所述晶体管M1和所述晶体管M2的漏极分别作为存储单元的两根位线BL1和BL2;所述晶体管M1和所述晶体管M2的第二层栅极作为存储单元的控制栅CG1和CG2。 |
地址 |
215000 江苏省苏州市吴中区木渎镇中山东路70号2307室 |