| 发明名称 | 基板处理装置及基板处理方法 | ||
| 摘要 | 一种基板处理装置具有：基板保持单元，其用于将基板保持为水平姿势；旋转单元，其使上述基板保持单元所保持的基板围绕铅垂轴线旋转；第一喷嘴，其具有第一相向面和形成于第一相向面的处理液喷出口，该第一相向面与通过上述旋转单元旋转的基板的下表面上的上述周边部的内侧的区域从该基板的下表面隔开间隔地相向；通过从上述处理液喷出口喷出的处理液，使基板的下表面与上述第一相向面之间的空间成为液密闭状态。 | ||
| 申请公布号 | CN102208329B | 申请公布日期 | 2014.04.23 |
| 申请号 | CN201110070885.9 | 申请日期 | 2011.03.21 |
| 申请人 | 大日本网屏制造株式会社 | 发明人 | 岸本卓也;安藤幸嗣 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人 | 郭晓东;马少东 |
| 主权项 | 一种基板处理装置，使用处理液对基板的周边部施行处理，其特征在于，具有：基板保持单元，其用于将基板保持为水平姿势；旋转单元，其使上述基板保持单元所保持的基板围绕铅垂轴线旋转；第一喷嘴，其具有第一相向面和形成于第一相向面的处理液喷出口，该第一相向面与通过上述旋转单元旋转的基板的下表面上的上述周边部的内侧的区域从该基板的下表面隔开间隔地相向；通过从上述处理液喷出口喷出的处理液，使基板的下表面与上述第一相向面之间的空间成为液密闭状态，上述第一相向面具有：内侧相向面，其形成有上述处理液喷出口；外侧相向面，其形成为对上述内侧相向面的周围进行包围的环状，在比上述内侧相向面更接近上述基板保持单元所保持的基板的下表面的位置上，与该基板的下表面相向。 | ||
| 地址 | 日本国京都府京都市 | ||