发明名称 一种多晶硅铸锭熔料及排杂工艺
摘要 本发明公开了一种多晶硅铸锭熔料及排杂工艺,包括步骤:一、预热:采用铸锭炉对装于坩埚内的硅料预热,并将铸锭炉加热温度逐步提升至T1;预热时间为6~10h,T1=1165~1185℃;二、熔化,熔化温度为T1~T5;T5=1540~1560℃;熔化过程中,向铸锭炉内充入惰性气体并将炉内气压保持在Q1,Q1=550~650mbar;三、排杂,过程如下:第11步、降压:将铸锭炉气压由Q1降至Q2,降压时间为8~12min,Q2=350~450mbar;第12步、保压;第13步、升压及降温。本发明方法步骤简单、设计合理、实现方便且易于掌握、使用效果好,能将炉内含碳气体及时排出,并提高多晶硅铸锭质量。
申请公布号 CN103741206A 申请公布日期 2014.04.23
申请号 CN201410041954.7 申请日期 2014.01.28
申请人 西安华晶电子技术股份有限公司 发明人 周建华
分类号 C30B11/00(2006.01)I;C30B28/06(2006.01)I;C30B29/06(2006.01)I 主分类号 C30B11/00(2006.01)I
代理机构 西安创知专利事务所 61213 代理人 谭文琰
主权项 一种多晶硅铸锭熔料及排杂工艺,其特征在于该工艺包括以下步骤:步骤一、预热:采用铸锭炉对装于坩埚内的硅料进行预热,并将所述铸锭炉的加热温度逐步提升至T1;预热时间为6h~10h,其中T1=1165℃~1185℃;步骤二、熔化:采用所述铸锭炉对装于坩埚内的硅料进行熔化,直至坩埚内的硅料全部熔化;熔化温度为T1~T5;其中T5=1540℃~1560℃;本步骤中熔化过程中,向所述铸锭炉内充入惰性气体并将所述铸锭炉内气压保持在Q1,其中Q1=550mbar~650mbar;步骤三、排杂,过程如下:第11步、降压:将所述铸锭炉的加热温度控制在T5,并将所述铸锭炉的气压由Q1降至Q2,降压时间为8min~12min;其中,Q2=350mbar~450mbar;第12步、保压:将所述铸锭炉的加热温度控制在T5,并将所述铸锭炉内气压保持在Q2,保压时间为10min~60min;第13步、升压及降温:先将所述铸锭炉的气压由Q2升至Q1,再将所述铸锭炉的加热温度由T5逐渐降至T6,其中T6为多晶硅结晶温度且T6=1420℃~1440℃。
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