发明名称 光学元件的制造方法
摘要 一种光学元件的制造方法,其特征在于,进行下述工序,决定模具设计值,得到最终成型模具:求出用基准成型模具制作的透镜的波阵面像差的值,从预定定数的整数倍的值中,求出最接近于用基准成型模具制作的透镜的波阵面像差的值与透镜设计值之差的像差量(之工序);求出抵消像差量的修正像差量,使低次球面像差或低次像散之任何一种成为修正像差量地变更透镜设计值,根据变更后的值,制作变更了第1模具或第2模具之任何一个成型面形状的修正成型模具(之工序)。
申请公布号 CN102378741B 申请公布日期 2014.04.23
申请号 CN201080015191.9 申请日期 2010.03.11
申请人 柯尼卡美能达精密光学株式会社 发明人 坂田忠文;小川洋一;多田一成
分类号 C03B11/00(2006.01)I;B29C43/36(2006.01)I;G11B7/1372(2012.01)I;G11B7/22(2006.01)I 主分类号 C03B11/00(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 许海兰
主权项 一种光学元件的制造方法,是用包括具有第1成型面的第1模具以及具有第2成型面的第2模具之成型模具模压成型成型素材制造透镜,光学元件的制造方法的特征在于,进行下述工序:决定透镜设计值,根据该透镜设计值,决定包括所述第1成型面形状、所述第2成型面形状、所述第1成型面及所述第2成型面之间的距离的模具设计值,按照该模具设计值,制作基准成型模具,其中,以下将所述第1成型面及所述第2成型面之间的距离称之为模具间距离;求出用所述基准成型模具制作的透镜的低次球面像差或低次像散之任何一个特定像差的值,当该特定像差的值超过所定范围时,从预定的多个值中求出最接近于用所述基准成型模具制作的透镜的所述特定像差的值与所述透镜设计值之差的值,作为近似像差量;求出抵消所述近似像差量的修正像差量,使所述特定像差成为所述修正像差量地变更所述透镜设计值,根据变更后的值,用变更了所述第1模具或所述第2模具之任何一个成型面形状的修正成型模具,制作透镜;以及求出用所述修正成型模具制作的透镜的所述特定像差的值,判定所述特定像差的求得值是否在所定范围以内,当所述求得值在所定范围以内时,决定模具设计值,根据该设计值制造透镜,所述预定的多个值,是预定定数的除0以外的整数倍之值,所述特定像差是3次球面像差或5次球面像差,在判定所述特定像差的求得值是否在所定范围以内之工序中判定为在所定范围以内之后,进行下述工序:测定用所述修正成型模具制作的透镜的轴上厚和像差;以及根据在测定所述轴上厚和像差之工序中测定到的结果,修正所述模具间距离,决定模具设计值,根据该设计值制造透镜。
地址 日本东京