发明名称 | 一种分子铁电薄膜及其溶液浸泡生长方法 | ||
摘要 | 本发明公开了一种分子铁电薄膜及其溶液浸泡生长方法。所述的薄膜为晶体薄膜,具备铁电性,其组成物质为有机-无机化合物分子铁电体。将分子铁电体溶液与清洁的基片相接触,并均匀地在基片上铺展且蒸发以获得均匀的薄膜,并将制得的均匀薄膜与质量浓度不小于其饱和时90%的该分子铁电体溶液相接触一定时间。本发明的意义在于,采用溶液浸泡生长法制备的分子铁电薄膜具备良好的铁电性,可以利用外加电场反转薄膜任意特定区域的极化方向,实现基于铁电效应的数据存储。本发明在铁电存储器领域具备潜在的应用价值。 | ||
申请公布号 | CN103740327A | 申请公布日期 | 2014.04.23 |
申请号 | CN201310671979.0 | 申请日期 | 2013.12.10 |
申请人 | 南京理工大学 | 发明人 | 袁国亮;马赫;常磊;高文秀 |
分类号 | C09K3/00(2006.01)I | 主分类号 | C09K3/00(2006.01)I |
代理机构 | 南京理工大学专利中心 32203 | 代理人 | 朱显国 |
主权项 | 一种分子铁电薄膜,其特征在于所述的铁电薄膜具有铁电性,所述薄膜为晶体薄膜,具备自发极化,且所述薄膜任意区域的极化方向可被外电场反转。 | ||
地址 | 210094 江苏省南京市孝陵卫200号 |