发明名称 一种分子铁电薄膜及其溶液浸泡生长方法
摘要 本发明公开了一种分子铁电薄膜及其溶液浸泡生长方法。所述的薄膜为晶体薄膜,具备铁电性,其组成物质为有机-无机化合物分子铁电体。将分子铁电体溶液与清洁的基片相接触,并均匀地在基片上铺展且蒸发以获得均匀的薄膜,并将制得的均匀薄膜与质量浓度不小于其饱和时90%的该分子铁电体溶液相接触一定时间。本发明的意义在于,采用溶液浸泡生长法制备的分子铁电薄膜具备良好的铁电性,可以利用外加电场反转薄膜任意特定区域的极化方向,实现基于铁电效应的数据存储。本发明在铁电存储器领域具备潜在的应用价值。
申请公布号 CN103740327A 申请公布日期 2014.04.23
申请号 CN201310671979.0 申请日期 2013.12.10
申请人 南京理工大学 发明人 袁国亮;马赫;常磊;高文秀
分类号 C09K3/00(2006.01)I 主分类号 C09K3/00(2006.01)I
代理机构 南京理工大学专利中心 32203 代理人 朱显国
主权项 一种分子铁电薄膜,其特征在于所述的铁电薄膜具有铁电性,所述薄膜为晶体薄膜,具备自发极化,且所述薄膜任意区域的极化方向可被外电场反转。
地址 210094 江苏省南京市孝陵卫200号