发明名称 |
干式积层陶瓷电容器的漏电流特性改善方法 |
摘要 |
干式积层陶瓷电容器的漏电流特性改善方法,包括晶片准备阶段;指定晶片上的电极层和电介层的积层层数阶段;在晶片上形成初始绝缘层的阶段;在初始绝缘层上形成电极层的阶段;在电极层上形成电介层的阶段;电极层和电介层反复实施积层的阶段;积层后,电极层和电介层热处理的阶段;热处理后形成保护层的阶段;形成保护层后,晶片背面研磨阶段;晶片背面研磨后以芯片形态切割阶段;切割后的芯片形成外部电极的阶段。本发明在形成内部电极的阶段中形成扩散防止膜,外部环境有变化时防止内部电极物质向电介层内扩散,另外,电介层的非晶体化,内部电极层和电介层的积层完成后做适当的热处理,提供了漏电流特性更高的高品质电容器的制造方法。 |
申请公布号 |
CN103745828A |
申请公布日期 |
2014.04.23 |
申请号 |
CN201310614219.6 |
申请日期 |
2013.11.25 |
申请人 |
大连天壹电子有限公司 |
发明人 |
高在洪 |
分类号 |
H01G4/005(2006.01)I |
主分类号 |
H01G4/005(2006.01)I |
代理机构 |
大连智高专利事务所(特殊普通合伙) 21235 |
代理人 |
胡景波 |
主权项 |
干式积层陶瓷电容器的漏电流特性改善方法,包括以下步骤:S1:晶片准备阶段;S2:指定晶片上的电极层和电介层的积层层数阶段;S3:在晶片上形成初始绝缘层的阶段;S4:在初始绝缘层上形成电极层的阶段;S5:在电极层上形成电介层的阶段;S6:电极层和电介层反复实施积层的阶段;S7:积层后,电极层和电介层热处理的阶段;S8:热处理后形成保护层的阶段;S9:形成保护层后,晶片背面研磨阶段;S10:晶片背面研磨后以芯片形态切割阶段;S11:切割后的芯片形成外部电极的阶段。 |
地址 |
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