一种在蓝宝石衬底上制备纳米图案的方法

摘要

本发明公开了一种在蓝宝石衬底上制备纳米图案的方法，包括如下步骤：(1)选取洁净的蓝宝石衬底基片，在其表面涂布六甲基二硅氮烷，烘烤，使其反应完全；(2)涂布紫外光固化纳米压印胶材料，形成压印胶层；(3)将压印模板压入上述压印胶层，紫外曝光，曝光结束后移去压印模板；(4)刻蚀去除纳米压印胶残余层，暴露出蓝宝石衬底；(5)将纳米压印胶层作为刻蚀掩膜，刻蚀蓝宝石衬底；(6)刻蚀去除纳米压印胶层，即可获得纳米图案化蓝宝石衬底。本发明省略了以往需在蓝宝石衬底上先沉积一层二氧化硅过渡层作为掩膜的复杂过程，大大简化了制备工艺，降低了制备难度与成本，更易实现产业化应用。

主权项

一种在蓝宝石衬底上制备纳米图案的方法，其特征在于，包括如下步骤：(1) 选取洁净的蓝宝石衬底基片，在其表面涂布六甲基二硅氮烷，烘烤，使其反应完全；(2) 涂布紫外光固化纳米压印胶材料，形成压印胶层；所述紫外光固化纳米压印胶材料的黏度为1000~10000厘泊，其包括多官能度丙烯酸酯预聚物、光引发剂和黏合促进剂，所述黏合促进剂为丙烯酸酯聚酯黏合促进剂；(3) 将压印模板压入上述压印胶层，紫外曝光，曝光结束后移去压印模板；所述压印模板为双层复合结构的柔性纳米压印模板，其上层为柔性的高分子弹性体衬底，杨氏模量范围在1~5N/mm²，其厚度为0.1~3mm；下层为刚性的光固化高分子纳米压印图案层，杨氏模量范围在10N/mm²以上，其厚度为30~500nm；(4) 刻蚀去除纳米压印胶残余层，暴露出蓝宝石衬底；(5) 将纳米压印胶层作为刻蚀掩膜，刻蚀蓝宝石衬底；(6) 刻蚀去除纳米压印胶层，即可获得纳米图案化蓝宝石衬底。