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发明名称 薄膜形成装置及使用其之方法
摘要
申请公布号 TWI435385 申请公布日期 2014.04.21
申请号 TW097138790 申请日期 2008.10.08
申请人 东京威力科创股份有限公司 日本 发明人 野寺伸武;佐藤润;山本和弥;长谷部一秀
分类号 H01L21/306;C23C16/54 主分类号 H01L21/306
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 日本
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