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经营范围
发明名称
微影装置及器件制造方法
摘要
申请公布号
TWI435184
申请公布日期
2014.04.21
申请号
TW097145241
申请日期
2005.10.05
申请人
ＡＳＭＬ荷兰公司 荷兰
发明人
卡斯 季格 托斯特;安诺 贾 贝雷克
分类号
G03F7/20;H01L21/027
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址
荷兰
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