光阻底层膜形成组成物及使用其之光阻图型的形成方法,申请号TW097141369-传众专利搜索

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法人/股东/高管

发明名称	光阻底层膜形成组成物及使用其之光阻图型的形成方法
摘要
申请公布号	TWI435179	申请公布日期	2014.04.21
申请号	TW097141369	申请日期	2008.10.28
申请人	日产化学工业股份有限公司日本	发明人	坂本力丸;广井佳臣;石田智久;远藤贵文
分类号	G03F7/11;C08G59/14;H01L21/027	主分类号	G03F7/11
代理机构		代理人	林志刚台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址	日本

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