| 发明名称 |
GROUP 5 CYCLOPENTADIENYL TRANSITION METAL-CONTAINING PRECURSORS FOR DEPOSITION OF GROUP 5 TRANSITION METAL-COINTAINING FILMS |
| 摘要 |
Transition metal-containing precursors are disclosed. Also disclosed are methods of synthesizing and using the disclosed precursors to deposit transition metal-containing films on one or more substrates via a vapor deposition process. |
| 申请公布号 |
US2014106071(A1) |
申请公布日期 |
2014.04.17 |
| 申请号 |
US201314106241 |
申请日期 |
2013.12.13 |
| 申请人 |
L'AIR LIQUIDE, SOCIÉTÉ ANONYME POUR I'ETUDE ET I'EXPLOITATION DES PROCÉDÉS GEORGES CLAUDE |
发明人 |
LANSALOT-MATRAS CLÉMENT;NOH WONTAE |
| 分类号 |
C07F17/00;C23C16/18 |
主分类号 |
C07F17/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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