发明名称 WAFER PROCESSING METHODS
摘要 Wafer processing methods are provided. The methods may include cutting respective edges of a wafer and an adhesive a predetermined angle before grinding a back surface of the wafer.
申请公布号 US2014106649(A1) 申请公布日期 2014.04.17
申请号 US201314056270 申请日期 2013.10.17
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 KIM TAE-YEONG;KANG PIL-KYU;PARK BYUNG-IYUL;PARK JIN-HO
分类号 H01L21/02 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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