发明名称 |
压印光刻方法和设备 |
摘要 |
提供了一种压印光刻方法和设备。所述方法包括进行第一压印和进行第二压印,所述第一压印包括:对于设置有在第一配置中的可压印介质的多个液滴的衬底的区域,使用压印模板将图案压印在所述可压印介质中,在图案的压印期间在可压印介质的所述液滴、压印模板和衬底之间形成穴,所述第二压印包括:对于设置有在第二配置中的可压印介质的多个液滴的衬底的区域,使用相同的压印模板在可压印介质中压印图案,在图案的压印期间在可压印介质的液滴、压印模板和衬底之间形成穴,其中,可压印介质的液滴的第一配置不同于可压印介质的液滴的第二配置,使得在第二压印期间形成的穴形成在相对于用于在第一压印期间形成的穴的压印模板的不同的部位处。 |
申请公布号 |
CN101900937B |
申请公布日期 |
2014.04.16 |
申请号 |
CN201010113454.1 |
申请日期 |
2010.02.03 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
S·F·乌斯特;J·F·狄杰克斯曼;Y·W·克汝吉特-斯特吉曼;J·H·拉默斯;L·范德滕佩尔 |
分类号 |
G03F7/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/00(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
王新华 |
主权项 |
一种压印光刻方法,所述方法包括步骤:进行第一压印,所述第一压印包括:对于设置有在第一配置中的可压印介质的多个液滴的衬底的区域,使用压印模板将图案压印在所述可压印介质中;和进行第二压印,所述第二压印包括:对于设置有在第二配置中的可压印介质的多个液滴的衬底的区域,使用相同的压印模板将图案压印在所述可压印介质中;其中,可压印介质的液滴的所述第一配置不同于可压印介质的液滴的所述第二配置,和其中,所述第一压印和第二压印在所述衬底的同一层的衬底的不同的没有交叠的区域上进行。 |
地址 |
荷兰维德霍温 |