| 发明名称 | EUVL用光学部件的平滑化方法及光学面平滑化后的EUVL用光学部件 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种将EUVL用光学部件的具有凹陷缺陷点的光学面平滑化的方法。具体而言，本发明提供一种如下所述将EUVL用光学部件的光学面平滑化的方法，即，对含有TiO<sub>2</sub>且以SiO<sub>2</sub>为主成分的石英玻璃材料制的EUV光刻(EUVL)用光学部件的具有凹陷缺陷点的光学面，在水蒸气分压3.6mmHg以下的气氛中，以能量密度0.3～1.5J/cm<sup>2</sup>，照射以EUVL用光学部件的吸收系数为0.01μm<sup>-1</sup>以上的波长进行振荡的激光，从而将EUVL用光学部件的光学面平滑化。 | ||
| 申请公布号 | CN102150218B | 申请公布日期 | 2014.04.16 |
| 申请号 | CN200980135762.X | 申请日期 | 2009.08.19 |
| 申请人 | 旭硝子株式会社 | 发明人 | 小野元司;渡边满;横山美华 |
| 分类号 | G21K1/06(2006.01)I;C03C23/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | G21K1/06(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 高培培;车文 |
| 主权项 | 一种将EUVL用光学部件的光学面平滑化的方法，其特征在于，对含有TiO<sub>2</sub>且以SiO<sub>2</sub>为主成分的石英玻璃材料制的EUV光刻用光学部件即EUVL用光学部件的具有凹陷缺陷点的光学面，在水蒸气分压3.6mmHg以下的气氛中，以能量密度0.3～1.5J／cm<sup>2</sup>，照射以EUVL用光学部件的吸收系数为0.01μm<sup>‑1</sup>以上的波长进行振荡的激光。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||