发明名称 一种外延片蒸镀装置
摘要 本实用新型提出一种外延片蒸镀装置,包括承载盘和蒸镀单元;所述蒸镀单元包括能被磁铁吸引的固定块、磁铁、不能被磁铁吸引的盖子、外延片、能被磁铁吸引的光罩片,所述光罩片上具有蒸镀孔;所述固定块固定设置在所述承载盘上,所述盖子将所述磁铁密封在所述固定块上,所述外延片设置在所述盖子与所述光罩片之间。在蒸镀承载盘直径和磁铁直径不变的情况下,通过缩小固定块、盖子和光罩片的直径、缩小固定块与固定块之间的间距,可将单个承载盘承载的蒸镀单元由50个提升到62个,相应地,蒸镀的外延片的数量由50个也提升为62个,蒸镀金属成本降低19.3%,使得成品成本降低,提升了产品在市场上的竞争力。
申请公布号 CN203546135U 申请公布日期 2014.04.16
申请号 CN201320620068.0 申请日期 2013.10.09
申请人 元茂光电科技(武汉)有限公司 发明人 胡泰祥
分类号 C23C14/24(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I;H01L21/203(2006.01)I 主分类号 C23C14/24(2006.01)I
代理机构 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人 张大威
主权项 一种外延片蒸镀装置,其特征在于,包括承载盘(1)和蒸镀单元;所述蒸镀单元包括能被磁铁吸引的固定块(2)、磁铁(3)、不能被磁铁吸引的盖子(4)、外延片(5)、能被磁铁吸引的光罩片(6),所述光罩片(6)上具有蒸镀孔(61);所述固定块固定设置在所述承载盘上,所述盖子将所述磁铁密封在所述固定块上,所述外延片设置在所述盖子与所述光罩片之间。
地址 430074 湖北省武汉市东湖新技术开发区滨湖路6号