发明名称 图案检查方法及装置、光掩模制造方法以及图案转印方法
摘要 图案检查方法及装置、光掩模制造方法以及图案转印方法。本发明的课题是提供适于简单且快速地检查光掩模有无图案不均的图案检查方法。作为解决手段,本发明的图案检查方法包括以下步骤:照射步骤,利用预定的光束照射重复图案;傅里叶变换像检测步骤,检测傅里叶变换像,该傅里叶变换像与通过光束照射重复图案而产生的衍射光对应;以及图案不均判定步骤,根据检测出的傅里叶变换像,判定光掩模有无图案不均,其中,在傅里叶变换像检测步骤中,以使得与光掩模的图案不均对应的傅里叶变换像和与正常图案对应的傅里叶变换像在空间上分离的方式,对与衍射光中的预定的高次衍射光对应的傅里叶变换像进行检测。
申请公布号 CN101799433B 申请公布日期 2014.04.16
申请号 CN201010113612.3 申请日期 2010.02.05
申请人 HOYA株式会社 发明人 东文明;饭塚隆之;园田恒彦
分类号 G01N21/956(2006.01)I;G03F1/84(2012.01)I 主分类号 G01N21/956(2006.01)I
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人 黄纶伟
主权项 一种图案检查方法,对在透明基板上形成有由周期排列的单位图案构成的重复图案的光掩模的图案不均进行检查,其特征在于,该图案检查方法包括下述步骤:照射步骤,利用预定的光束照射所述重复图案;傅里叶变换像检测步骤,借助预定的光学系统来检测傅里叶变换像,该傅里叶变换像与通过所述光束照射所述重复图案而产生的衍射光对应;以及图案不均判定步骤,根据所检测出的所述傅里叶变换像,判定所述光掩模有无图案不均,当将所述光束的波长定义为λμm、将所述单位图案的间距定义为ωμm、将含有所述图案不均的该单位图案的间距定义为ω’μm、将所述光学系统的焦距定义为f mm、将检测所述傅里叶变换像的傅里叶变换面的分辨率定义为p mm、将n次的所述衍射光与0次的所述衍射光构成的角度定义为θn deg、将所述单位图案的间距为ω、ω’时的各个n次衍射光的受光面上的位置差异定义为Δh’时,在所述傅里叶变换像检测步骤中,对与所述衍射光中的满足下述条件的n次的所述衍射光对应的傅里叶变换像进行检测,Δh’=f(tan(Δθn))&gt;p其中,Δθn=sin<sup>‑1</sup>(nλ/ω)‑sin<sup>‑1</sup>(nλ/ω’)。
地址 日本东京都