发明名称 一种具有良好电流导通能力和高耐压的半导体装置及其制备方法
摘要 本发明公开了一种具有良好电流导通能力和高耐压的半导体装置及其制备方法。本发明的半导体装置为采用III-V半导体材料的肖特基势垒二极管,具有倾斜金属场板的结构和增强层III-V半导体材料层。正向导通时,通过电导调制作用使得该半导体装置在正偏时的导通能力获得提升。反偏时,带有掺杂的增强层通过对2DEG的调制从而使得耐压能力获得提高。因此可以实现比传统肖特基势垒二极管更低的导通电阻R<sub>on</sub>和更高的击穿电压V<sub>br</sub>。该结构适合应用于平面结构的功率器件。
申请公布号 CN103730518A 申请公布日期 2014.04.16
申请号 CN201210391027.9 申请日期 2012.10.16
申请人 浙江大学苏州工业技术研究院 发明人 谢刚;汤岑;陈琛;盛况;汪涛;郭清;崔京京
分类号 H01L29/872(2006.01)I;H01L29/40(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I 主分类号 H01L29/872(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种具有良好电流导通能力和高耐压的半导体装置,其特征在于:包括:传统的半导体肖特基结,具有半导体材料构成的漂移区和导电沟道;覆盖器件表面的同阳极电极接触的增强区域;一系列III族氮化物层,其形成具有与所述阴极电极形成欧姆接触,阳极电极形成肖特基接触的斜坡门极。
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