| 发明名称 | 一种化学机械抛光液 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种化学机械抛光液，其含有水，研磨剂，氧化剂，聚环氧琥珀酸和/或聚环氧琥珀酸的盐。本发明的化学机械抛光液，通过加入聚环氧琥珀酸和/或聚环氧琥珀酸的盐，提高了钨/二氧化硅的选择比，降低了由于机械摩擦而造成的刮伤(scratch)，从而提升了抛光液的抛光性能，提高了成品率，节约了制造成本。 | ||
| 申请公布号 | CN102051127B | 申请公布日期 | 2014.04.16 |
| 申请号 | CN200910198376.7 | 申请日期 | 2009.11.06 |
| 申请人 | 安集微电子(上海)有限公司 | 发明人 | 王晨;何华锋 |
| 分类号 | C08J5/14(2006.01)I;C09G1/02(2006.01)I | 主分类号 | C08J5/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 一种化学机械抛光液，含有水，研磨剂，氧化剂，聚环氧琥珀酸和/或聚环氧琥珀酸的盐，所述的氧化剂为硝酸铁和单过硫酸氢钾复合物的组合物，所述的氧化剂的含量为0.1%～5%。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||