发明名称 一种N型绝缘体上硅横向双扩散场效应晶体管
摘要 一种N型绝缘体上硅横向双扩散场效应晶体管,包括:N型衬底,在N型衬底上设有埋氧,在埋氧上设有N型外延层,在N型外延层的内部设有N型缓冲阱和P型体区,在N型缓冲阱内设有N型阳区,在P型体区中设有N型阴区和P型体接触区,在N型外延层的表面一定范围内设有栅氧化层和场氧化层,栅氧化层的上表面设有多晶硅栅,器件表面一定范围内还设有钝化层和金属层。其特征在于N型外延层上还设有P型阱区,P型阱区和P型体区构成阶梯状P型掺杂,P型阱区的掺杂浓度低于P型体区,且P型阱区的一侧与场氧化层相切,另一侧与P型体区相抵,这种结构可以显著降低鸟嘴处的电场强度和碰撞电离率,从而有效地改善输出特性。
申请公布号 CN102437192B 申请公布日期 2014.04.16
申请号 CN201110404027.3 申请日期 2011.12.08
申请人 东南大学 发明人 孙伟锋;刘斯扬;王昊;叶楚楚;陆生礼;时龙兴
分类号 H01L29/78(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I 主分类号 H01L29/78(2006.01)I
代理机构 南京天翼专利代理有限责任公司 32112 代理人 汤志武
主权项 一种N型绝缘体上硅横向双扩散场效应晶体管,包括:N型衬底(1),在N型衬底(1)上设有埋氧(2),在埋氧(2)上设有N型外延层(3),在N型外延层(3)的内部设有N型缓冲阱(4)和P型体区(14),在N型缓冲阱(4)内设有N型阳区(5),在P型体区(14)中设有N型阴区(13)和P型体接触区(12),在N型外延层(3)的表面设有栅氧化层(10)和场氧化层(8)且栅氧化层(10)的一端和场氧化层(8)的一端相抵,所述栅氧化层(10)的另一端向N型阴区(13)延伸并止于N型阴区(13),所述场氧化层(8)的另一端向N型阳区(5)延伸并止于N型阳区(5),在栅氧化层(10)的表面设有多晶硅栅(9)且多晶硅栅(9)延伸至场氧化层(8)的表面,在场氧化层(8)、P型体接触区(12)、N型阴区(13)、多晶硅栅(9)和N型阳区(5)的表面设有钝化层(7),在N型阳区(5)表面连接有第一金属层(6),在P型体接触区(12)和N型阴区(13)连接有第二金属层(11),其特征在于,在N型外延层(3)内且在栅氧化层(10)的下方设有P型阱区(15),P型阱区(15)和P型体区(14)构成阶梯状P型掺杂,所述P型阱区(15)的P型掺杂浓度低于P型体区(14),且P型阱区(15)的一侧与场氧化层(8)相切,另一侧与P型体区(14)相抵。
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