发明名称 半导体加工用表面保护粘着带
摘要 本发明涉及一种半导体加工用表面保护粘着带,其于基材上具有粘着剂层,其中,该粘着带的探针粘附力B为0.08~0.20(MPa),且该粘着带的粘着力A(N/25mm)与探针粘附力B(MPa)之比C(A/B)为10(N/25mm/MPa)以上。
申请公布号 CN103733316A 申请公布日期 2014.04.16
申请号 CN201380002367.0 申请日期 2013.05.21
申请人 古河电气工业株式会社 发明人 内山具朗;横井启时
分类号 H01L21/304(2006.01)I;C09J7/02(2006.01)I;C09J133/08(2006.01)I 主分类号 H01L21/304(2006.01)I
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人 庞东成;褚瑶杨
主权项 一种半导体加工用表面保护粘着带,其在基材上具有粘着剂层,其中,该粘着带的探针粘附力B为0.08~0.20(MPa),且该粘着带的粘着力A(N/25mm)与探针粘附力B(MPa)之比C(A/B)为10(N/25mm/MPa)以上。
地址 日本东京都