发明名称 |
用于负型抗蚀剂的可显影底部抗反射涂料组合物 |
摘要 |
一种负型可显影底部抗反射涂料(NDBARC)材料包括聚合物,该聚合物含有脂肪族醇部分、芳香族部分以及羧酸部分。NDBARC组合物在涂布及烘烤之后不溶于一般的光刻胶溶剂,如丙二醇甲基醚乙酸酯(PGMEA)。NDBARC材料也包括光酸产生剂以及选择性的交联化合物。在NDBARC材料中,羧酸提供显影剂溶解性,而醇单独、羧酸单独或其组合提供PGMEA抗性。NDBARC材料对光刻胶溶剂具有抗性,因此,在涂布光刻胶于NDBARC上方的过程中,NDBARC与光刻胶之间不会发生互混。在曝光及烘烤之后,由于负型光刻胶中的聚合物与光刻曝光部分中的NDBARC层之化学增强交联,该负型光刻胶与该NDBARC层之光刻曝光部分皆变成不溶于显影剂。 |
申请公布号 |
CN103733134A |
申请公布日期 |
2014.04.16 |
申请号 |
CN201280038940.9 |
申请日期 |
2012.08.10 |
申请人 |
国际商业机器公司 |
发明人 |
陈光荣;S·J·霍姆斯;黄武松;刘森 |
分类号 |
G03F7/004(2006.01)I;G03F7/039(2006.01)I;G03F7/09(2006.01)I;C09D133/04(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/004(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人 |
夏正东 |
主权项 |
一种用于负型可显影底部抗反射涂料(NDBARC)材料的物质组合物,该物质组合物包含聚合物,该聚合物包括至少一个羧酸部分、至少一个可交联脂肪族醇部分以及至少一个芳香族部分。 |
地址 |
美国纽约 |