| 摘要 |
<p>Un aparato (300, 400) para aplicar radiación a una estructura anatómica y a un fotosensibilizante dispuestos en la estructura anatómica, en el que: una primera fuente de radiación (320, 430) está configurada para proporcionar radiación en un primer intervalo de longitudes de onda a la estructura anatómica y al fotosensibilizante dispuestos en la estructura anatómica, para reducir o eliminar la presencia o la efectividad del fotosensibilizante dentro de una primera región de la estructura anatómica; y una segunda fuente de radiación (330, 450) está configurada para proporcionar radiación en un segundo intervalo de longitudes de onda a la estructura anatómica y al fotosensibilizante dispuesto en la estructura anatómica, después de la aplicación de la radiación en el primer intervalo de longitudes de onda, para que interactúe con el fotosensibilizante para dañar, como mínimo, una parte de una segunda región de la estructura anatómica, y en el que la primera región no se ve sustancialmente afectada por la radiación en el segundo intervalo de longitudes de onda, caracterizado por que: la radiación en el primer intervalo de longitudes de onda es más corta que la radiación en el segundo intervalo de longitudes de onda, la primera fuente de radiación está configurada para aplicar la radiación en el primer intervalo de longitudes de onda a una irradiancia que está comprendida entre 0,01 mW/cm2 y 30 mW/cm2, el primer intervalo de longitudes de onda está comprendido entre 320 nm y 450 nm, y el aparato está configurado para aplicar la primera radiación a una irradiancia menor que la segunda radiación.</p> |
