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发明名称 闸介电层的制作方法
摘要
申请公布号 TWI434348 申请公布日期 2014.04.11
申请号 TW100115171 申请日期 2011.04.29
申请人 南亚科技股份有限公司 桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路669号 发明人 苏国辉;陈逸男;刘献文
分类号 H01L21/31 主分类号 H01L21/31
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;叶璟宗 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项
地址 桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路669号
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