发明名称 含有以氢硫基改性之聚矽氧烷的防反射被膜形成用涂布液
摘要
申请公布号 TWI433899 申请公布日期 2014.04.11
申请号 TW097113037 申请日期 2008.04.10
申请人 日产化学工业股份有限公司 日本 发明人 嶋野亮介;元山贤一;根木隆之
分类号 C09D183/08;C09D5/00;G02B1/11 主分类号 C09D183/08
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本