| 发明名称 | 用于还原剂的供给装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种加热用于还原剂的供给装置(1)的方法。所述供给装置包括回流阀(20)，当给回流阀(20)提供打开电流时，所述回流阀打开，并且当给回流阀(20)提供小于打开电流的加热电流时，所述回流阀处于关闭状态并作为加热器来操作。回流阀优选与供给装置(1)的金属底板(6)导热性接触。 | ||
| 申请公布号 | CN102498270B | 申请公布日期 | 2014.04.09 |
| 申请号 | CN201080040110.0 | 申请日期 | 2010.09.03 |
| 申请人 | 依米泰克排放技术有限公司 | 发明人 | 罗尔夫·布吕克;简·霍奇森;斯文·舍佩尔斯 |
| 分类号 | F01N3/20(2006.01)I | 主分类号 | F01N3/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 | 代理人 | 吴大建;刘华联 |
| 主权项 | 一种加热用于还原剂的供给装置(1)的方法，其中所述供给装置包括回流阀(20)，当给回流阀(20)提供打开电流时，所述回流阀打开，以及当给回流阀(20)提供小于打开电流的加热电流时，所述回流阀处于关闭状态并作为加热器来操作。 | ||
| 地址 | 德国洛马尔 | ||