发明名称 |
溅镀磁控管和动态影响磁场的方法 |
摘要 |
本发明涉及一种溅镀磁控管和动态影响磁场的方法。溅镀磁控管包括:靶和磁体系统,其中靶和磁体系统能够相对彼此移置,并且所述磁体系统形成穿透所述靶的磁场;其中所述磁体系统具有支撑设备、其上布置有磁体的支撑板和致动器,并且所述支撑设备通过所述致动器可连接至所述支撑板,以便能够至少分段设置所述磁体系统和所述靶之间的距离;冷却回路,用于借助冷却剂冷却所述磁体布置和所述靶;层测量工具,用于获得沉积在所述衬底上的至少一层的层特性的数据;和磁体系统控制器,用于评估所获得的数据并且用于产生操纵变量,其中所述操纵变量是所述致动器的输入变量。 |
申请公布号 |
CN103710673A |
申请公布日期 |
2014.04.09 |
申请号 |
CN201310463956.0 |
申请日期 |
2013.10.08 |
申请人 |
冯·阿德纳设备有限公司 |
发明人 |
汉斯-于尔根·海因里希;斯文·黑内;罗尔夫·兰克 |
分类号 |
C23C14/35(2006.01)I;H01J37/34(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/35(2006.01)I |
代理机构 |
中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 |
代理人 |
关兆辉;谢丽娜 |
主权项 |
一种用于涂覆衬底(3)的溅镀磁控管,包括:·靶(1)和磁体系统(4),其中所述靶(1)和磁体系统(4)能够被相对彼此移置,并且所述磁体系统(4)形成穿透所述靶(1)的磁场,·其中所述磁体系统(4)具有支撑设备(41)、其上布置有磁体(43)的支撑板(42)、和致动器(51),并且所述支撑设备(41)借助所述致动器(51)能够连接至所述支撑板(42),以便能够至少分段设置所述磁体系统(4)和所述靶(1)之间的距离,·冷却回路,用于借助冷却剂冷却磁体布置(43)和所述靶(1),·层测量工具(6),用于获得沉积在所述衬底(3)上的至少一层的层特性的数据,以及·磁体系统控制器(7),用于评估所获得的数据、并且用于生成操纵变量(8),其中所述操纵变量(8)是所述致动器(51)的输入变量。 |
地址 |
德国德累斯顿 |