一种用于反应室的旋转装置

摘要

本发明公开了一种用于MOCVD设备的旋转装置，包括：主轴（1），该主轴安装在下法兰上并通过磁流体封板（2）与下法兰密封，将反应室内部与外界完全隔开，所述的旋转主轴（1）通过磁流体密封装置（3）与马达（4）连接。所述主轴（1）的上端面沿轴向方向同轴心设有一个通孔，该通孔一直延伸至下法兰端面，且旋转主轴上端面沿径向设有梅花状分布的小孔，这些小孔与轴向的通孔连通，所述的下法兰上设有一氮气进气入口（5），该氮气入口与主轴轴向通孔的底部连通。本发明反应室密封性能好，旋转主轴不易发生热变形现象，载片盘的动平衡稳定。

主权项

一种用于反应室的旋转装置，其特征在于包括：主轴（1），该主轴安装在反应室下法兰上并通过磁流体封板（2）与下法兰密封，将反应室内部与外界完全隔开，所述的旋转主轴（1）通过磁流体密封装置（3）与马达（4）连接；  所述主轴（1）的上端面沿轴向方向同轴心设有一个通孔，该通孔一直延伸至下法兰端面，且主轴上端面沿径向设有梅花状分布的小孔，这些小孔与轴向的通孔连通，所述的下法兰上设有一氮气进气入口（5），该氮气入口与主轴轴向通孔的底部连通。