光刻设备和使用光刻设备制造器件的方法

摘要

本发明公开了一种光刻设备和使用光刻设备制造器件的方法。一种用于光刻设备的液体处理结构包括：液滴控制器，配置成允许浸没液体的液滴从所述结构损失且防止所述液滴与所限制的浸没液体的弯液面碰撞。液滴控制器可以包括气刀，所述气刀布置成交叠以阻挡进入的液滴。可以设置有与用于抽取穿过间隙的液体的气刀之间的间隙对齐的抽取孔。允许液滴穿过间隙逸出。

主权项

一种浸没式光刻设备，所述浸没式光刻设备包括：液体处理结构，所述液体处理结构配置成将浸没液体供给和限制至投影系统和正对表面之间的空间，所述正对表面包括台、或由所述台支撑的衬底、或所述台和所述衬底两者；和液滴控制器，所述液滴控制器在所述空间的径向向外位置上，配置成允许浸没液体的液滴从所述液滴控制器的径向向内位置穿过至所述液滴控制器的径向向外位置，和防止液滴从所述液滴控制器的径向向外位置到达所述液滴控制器的径向向内位置，其中所述液滴控制器包括多个细长气体出口开口，所述细长气体出口开口配置成朝向所述正对表面引导气流，其特征在于，所述液体处理结构还包括俘获式气体出口开口，所述俘获式气体出口开口以在垂直于所述正对表面的扫描方向的方向和各自的细长气体出口开口的延伸方向之间的一角度从所述各自的细长气体出口开口的径向向内的一端延伸。