发明名称 光刻设备和器件制造方法
摘要 物体支撑结构构造成支撑物体。物体支撑结构包括回填结构,构造成供给热缓冲流体至物体支撑结构并从物体支撑结构抽取热缓冲流体。回填结构连接至抽取管道,其构造并布置成从回填结构抽取至少气相的热缓冲流体。回填结构连接至供给管道,构造并布置成供给液相热缓冲流体至回填结构。回填结构布置成使得热缓冲流体成为气相和液相的组合的状态,以与物体热接触。
申请公布号 CN102067039B 申请公布日期 2014.04.09
申请号 CN200980123070.3 申请日期 2009.07.22
申请人 ASML荷兰有限公司 发明人 J·奥腾斯;J·雅各布斯
分类号 G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 王波波
主权项 一种温度稳定系统,构造成稳定物体的温度,所述系统包括:物体支撑结构,构造成当物体安装在物体支撑位置上时支撑所述物体,所述物体支撑结构包括多个突起,所述多个突起配置成提供用以支撑物体的平的平面;供给管道,构造并布置成提供至少液相的热缓冲流体;回填结构,由所述多个突起形成,所述回填结构构造并布置成供给缓冲流体以与所述物体热接触以及抽取与所述物体热接触的缓冲流体;和抽取管道,构造并布置成从所述回填结构至少抽取至少气相的热缓冲流体;所述回填结构布置成当在缓冲流体和物体之间建立热接触时使其中的热缓冲流体成为液相和气相的组合的状态并调节两相的气压水平以确定蒸发温度,以便允许气相流体与物体接触。
地址 荷兰维德霍温