发明名称 |
还原-Fenton氧化耦合处理偶氮印染废水的方法 |
摘要 |
本发明公开了属于环境保护的工业废水处理及回用技术领域的还原-Fenton氧化耦合处理偶氮染料废水的方法。在经预调pH至酸性的偶氮染料废水中加入低剂量经活化的还原剂在20℃-100℃将废水中的偶氮键还原为易被氧化降解的肼键,再通过Fenton试剂氧化降解被还原的染料大分子,反应完成后,调节出水pH至中性,通过沉降进一步除去水中的有机物;沉降后出水可以通过活性炭吸附有机小分子,以进一步保证出水水质。该方法克服了现有的Fenton氧化耦联工艺需额外配备特殊装置和设备、工艺流程复杂、处理费用高等问题,且该工艺流程简单,10h内实现偶氮印染废水色度去除率100%,COD去除率>90%。 |
申请公布号 |
CN103708648A |
申请公布日期 |
2014.04.09 |
申请号 |
CN201310732911.9 |
申请日期 |
2013.12.26 |
申请人 |
清华大学 |
发明人 |
祁光霞;王毅;雷雪飞;袁超;孙应龙;李磊 |
分类号 |
C02F9/04(2006.01)I;C02F103/30(2006.01)N |
主分类号 |
C02F9/04(2006.01)I |
代理机构 |
北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 |
代理人 |
朱琨 |
主权项 |
一种还原‑Fenton氧化耦合处理偶氮染料废水的方法,其特征在于,首先在偶氮染料废水中加入还原剂进行处理,使偶氮染料废水中的偶氮键还原为肼键,再采用Fenton氧化法处理废水,最后调整废水的pH至中性或碱性,静置去除沉淀,得到出水。 |
地址 |
100084 北京市海淀区北京市100084-82信箱 |