离子注入机的新型掩膜

摘要

本实用新型涉及一种离子注入机的新型掩膜，属于太阳能光伏电池制造技术领域。这主要特点是掩膜为中间镂空的正方形石墨框，本实用新型是在现有用于选择性发射极工艺的点状、线状掩膜的基础上进行上述形状的改进，并运用到离子注入工艺中，通过较小的成本，克服现有离子注入工艺存在的硅片并联电阻偏低的问题，满足市场需求，最大程度提高电池效率和可靠性，改善电池品质。

主权项

一种离子注入机的新型掩膜，其特征是，所述掩膜为中间镂空的正方形石墨框。