| 发明名称 | 一种关键尺寸测试的校正装置和方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种关键尺寸测试的校正装置和方法，可以在Mask上设置至少一组Mark，利用所述Mask进行刻蚀工艺后在基板上形成的图形获知DICD的实际值，据此校正CD测试结果。本发明装置和方法，简化了DICD测试值的校准工作，并能够保证校准精度。 | ||
| 申请公布号 | CN103713471A | 申请公布日期 | 2014.04.09 |
| 申请号 | CN201210378201.6 | 申请日期 | 2012.10.08 |
| 申请人 | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 黄寅虎;刘同军;白明基 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G03F1/44(2012.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 | 代理人 | 张颖玲;张振伟 |
| 主权项 | 一种关键尺寸测试的校正装置，其特征在于，该装置包括掩膜板Mask，所述掩膜板Mask设置有至少一组标记Mark，所述至少一组标记Mark用于在经过刻蚀工艺后在基板上形成能够获知关键尺寸DICD的实际值的图形。 | ||
| 地址 | 230011 安徽省合肥市新站区铜陵北路2177号 | ||