| 发明名称 | 还原炉 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种尤其用于生产硅的还原炉，包括炉外壳(3)和带有尤其圆形截面的多个电极(1a，1b)，电极彼此以所限定的布置方式尤其沿着圆弧(2)布置在炉外壳中，其中，电极(1a，1b)中的至少一个构造为由多个单电极(1a，1b)组成的电极束，尤其构造为双电极。 | ||
| 申请公布号 | CN103717988A | 申请公布日期 | 2014.04.09 |
| 申请号 | CN201280023155.6 | 申请日期 | 2012.02.22 |
| 申请人 | SMS西马格股份公司 | 发明人 | R·克尼希;D·施特里德;R·德格尔;A·维耶;W·魏舍德尔 |
| 分类号 | F27B3/08(2006.01)I;C01B33/035(2006.01)I | 主分类号 | F27B3/08(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 陈浩然;杨国治 |
| 主权项 | 一种尤其用于生产硅的还原炉，包括炉外壳(3)和带有尤其圆形截面的多个电极(1a，1b)，电极彼此以所限定的布置方式尤其沿着圆弧(2)布置在所述炉外壳中，其特征在于，所述电极(1a，1b)中的至少一个构造为由多个单电极(1a，1b)组成的电极束，尤其构造为双电极。 | ||
| 地址 | 德国杜塞尔多夫 | ||