基板支承组件及基板处理装置

摘要

本发明涉及一种基板处理装置，尤其涉及一种利用等离子体的基板处理装置。根据本发明的一个实施例的基板处理装置，包括：腔室，内部具有处理空间；基板支承组件，位于所述腔室内并支承基板；气体供给单元，向所述腔室内部供给气体；以及电源，向供给到所述壳体内的气体供电从而产生等离子体，所述基板支承组件包括：静电夹盘，支承所述基板；下部盖，具有内部空间并包括金属材质，其中，所述内部空间设置有向所述静电夹盘供给电力或气体的线；以及一个或多个板，配置在所述静电夹盘和所述下部盖之间，所述静电夹盘包括金属板，所述一个或多个板为非金属材质。

主权项

一种基板处理装置，包括：腔室，内部具有处理空间；基板支承组件，位于所述腔室内并支承基板；气体供给单元，向所述腔室内部供给气体；以及电源，向供给到所述壳体内的气体供电，从而产生等离子体，所述基板支承组件包括：静电夹盘，支承所述基板；下部盖，具有内部空间并包括金属材质，其中，在所述内部空间中设置有向所述静电夹盘供给功率或气体的线；以及一个或多个板，配置在所述静电夹盘和所述下部盖之间，所述静电夹盘包括金属板，所述一个或多个板为非金属材质。