| 发明名称 | 曝光装置、曝光方法和器件制造方法 | ||
| 摘要 | 本申请公开了一种曝光装置、曝光方法和器件制造方法。曝光装置(EX)是经投影光学系统(PL)和液体(1)将曝光光(EL)照射到基片(P)上以对基片(P)进行曝光的装置。该曝光装置(EX)具有用于保持该基片(P)的基片台(PT)。将具有疏液性的平坦面(30A)的板构件(30)以可更换的方式安装到上述基片台(PT)上，以防止液体残留，维持良好的曝光精度。 | ||
| 申请公布号 | CN102163004B | 申请公布日期 | 2014.04.09 |
| 申请号 | CN201110089474.4 | 申请日期 | 2004.12.03 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 长坂博之;高岩宏明;蛭川茂 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 王以平 |
| 主权项 | 一种经投影光学系统和供给至该投影光学系统的像面侧的液体以曝光光对基片曝光的曝光装置，其特征在于:具备:保持上述基片且相对上述投影光学系统移动的台装置;以及包含配置于上述台装置上、经上述投影光学系统和上述液体被上述曝光光照射的光学部件、且检测透过该光学部件的上述曝光光的检测器;上述台装置，包含:支撑上述基片的背面的支撑部;以及包含配置于上述支撑部周围的平坦面且对于该台装置可装卸的板构件;上述板构件，在上述平坦面内形成有配置上述光学部件的开口部。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||