发明名称 | 一种阵列基板及显示装置 | ||
摘要 | 本发明公开了一种阵列基板及显示装置,由于在存在较大折射率差的衬底基板和第一透明导电氧化物膜层之间新增加一涂层,该涂层的折射率大于衬底基板的折射率,且小于第一透明导电氧化物膜层的折射率,这样能够减弱由于衬底基板和第一透明导电氧化物膜层之间存在的较大的折射率差而引起的多层反射现象,可以提高阵列基板的光透过率。 | ||
申请公布号 | CN103713420A | 申请公布日期 | 2014.04.09 |
申请号 | CN201310745888.7 | 申请日期 | 2013.12.30 |
申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 金起满;柳在健 |
分类号 | G02F1/1335(2006.01)I | 主分类号 | G02F1/1335(2006.01)I |
代理机构 | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人 | 郭润湘 |
主权项 | 一种阵列基板,包括衬底基板和位于所述衬底基板上的第一透明导电氧化物膜层,其特征在于;在所述衬底基板和所述第一透明导电氧化物膜层之间设置有一涂层,所述涂层的折射率大于所述衬底基板的折射率,且小于所述第一透明导电氧化物膜层的折射率。 | ||
地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |