一种用于半导体介质刻蚀机的盖板结构

摘要

一种用于半导体介质刻蚀机的盖板结构，包括沟槽盖板、盖板主体；在盖板主体上设置有凸台面，凸台面的下方台阶面上设置有冷却液沟槽，并由沟槽盖板覆盖其上。冷却液沟槽设置为环形沟槽，环形沟槽的启始端与未端设置有通孔作为冷却液进出口。沟槽盖板与盖板主体的连接为焊接，表面确保平面度并用120PSIG水压测试1小时不泄漏为合格。本发明使冷却液带走刻蚀过程中产生的热量；密封结构保证真空的工作环境；粗糙的凸台表面主要作用可吸附反射的等离子气体，并使之形成漫反射，对晶圆起保护作用；刻蚀环境有腐蚀性，草酸阳极化能增强铝零件的耐腐蚀性且氧化层有一定的强度。它适用于半导体介质刻蚀机中腔室的密封及冷却。

主权项

一种用于半导体介质刻蚀机的盖板结构，包括沟槽盖板、盖板主体，其特征在于：盖板主体设置有凸台面，凸台面的下方台阶面上设置有冷却液沟槽，并由沟槽盖板覆盖其上。