发明名称 MOBILE DEVICE, MICRO-MOTION BODY AND EXPOSURE DEVICE
摘要 <p>송전ㆍ폐열 프레임(24A, 24B)이 웨이퍼 스테이지(WST1, WST2)로부터 복사한 열을 상시 흡수할 수 있기 때문에, 웨이퍼 스테이지(WST1, WST2)에 있어서 발생하는 열에 의한 노광 정밀도에 대한 영향을 억제하는 것이 가능해진다. 이 경우, 종래와 같이, 웨이퍼 스테이지(WST1, WST2)에 냉매를 공급하는 배관(튜브)을 외부로부터 접속할 필요가 없기 때문에, 배관의 장력에 의한 웨이퍼 스테이지(WST1, WST2)의 이동 정밀도의 저하를 방지할 수 있고, 이 점에서도 노광 정밀도를 고정밀도로 유지하는 것이 가능해진다.</p>
申请公布号 KR20140041932(A) 申请公布日期 2014.04.04
申请号 KR20147005802 申请日期 2007.02.28
申请人 NIKON CORPORATION 发明人 TANAKA KEIICHI
分类号 H01L21/68;B60L13/10;H01L21/027 主分类号 H01L21/68
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利