发明名称 |
单元掩模、掩模组件和制造显示设备的方法 |
摘要 |
本发明涉及单元掩膜、掩膜组件和制造显示设备的方法。所述掩模组件包括:框架,包括开口部件;和单元掩模,其在沿一个方向施加拉力的状态下布置在所述开口上并且使所述单元掩模中的每一个的两个端部由所述框架支撑,所述单元掩模中的每一个包括:图案开口部件,沿所述一个方向布置;以及第一槽,布置成与所述图案部件相邻并且在所述图案开口部件与所述单元掩模的边缘之间,并且形成为从所述单元掩模的表面被压低。 |
申请公布号 |
CN102201550B |
申请公布日期 |
2014.04.02 |
申请号 |
CN201110069548.8 |
申请日期 |
2011.03.17 |
申请人 |
三星显示有限公司 |
发明人 |
洪宰敏;金京汉 |
分类号 |
H01L51/56(2006.01)I;C23C14/04(2006.01)I;C23C16/04(2006.01)I;C30B25/04(2006.01)I;C30B23/04(2006.01)I |
主分类号 |
H01L51/56(2006.01)I |
代理机构 |
北京德琦知识产权代理有限公司 11018 |
代理人 |
罗正云;王琦 |
主权项 |
一种掩模组件,包括:框架,包括开口部件;和多个单元掩模,布置在所述开口部件上,并且在沿一个方向施加拉力的状态下使所述多个单元掩模中的每一个单元掩模的两个端部由所述框架支撑,所述多个单元掩模中的每一个单元掩模包括:沿所述一个方向布置的多个图案开口部件;和第一槽,布置成与所述多个图案开口部件中的一个图案开口部件相邻并且在该图案开口部件与该单元掩模的边缘之间,并且形成为从该单元掩模的表面被压低;其中所述第一槽在所述单元掩模的表面上具有与施加到与所述第一槽相邻的图案开口部件的拉力的强度相应的变形宽度。 |
地址 |
韩国京畿道 |