| 发明名称 | 一种阵列基板的制作方法、阵列基板和显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种阵列基板的制作方法、阵列基板及显示装置，所述方法包括：在衬底基板的第一面形成栅线、栅极和覆盖栅线和栅极的栅绝缘层；在栅绝缘层上形成半导体薄膜；利用所述栅极和栅线作为掩膜对所述半导体薄膜进行构图，形成位于所述栅线和栅极所在区域内部的源半导体层；利用所述源半导体层制作目标半导体层。本发明能够避免有源层错位，进而避免由于有源层错位所导致的显示器亮度不均匀的问题。 | ||
| 申请公布号 | CN103700626A | 申请公布日期 | 2014.04.02 |
| 申请号 | CN201310727100.X | 申请日期 | 2013.12.25 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 田肖雄;张卓;邓伟 |
| 分类号 | H01L21/77(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/77(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人 | 许静;安利霞 |
| 主权项 | 一种阵列基板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：在衬底基板的第一面形成栅线、栅极和覆盖栅线和栅极的栅绝缘层；在栅绝缘层上形成半导体薄膜；利用所述栅极和栅线作为掩膜对所述半导体薄膜进行构图，形成位于所述栅线和栅极所在区域内部的源半导体层；利用所述源半导体层制作目标半导体层。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||