一种纳米压印光刻胶表面改性剂

摘要

本发明涉及一种纳米压印光刻胶表面改性剂，属于半导体制造技术光刻胶材料领域。该表面改性剂的组成和重量配比如下：有机小分子溶剂：65%-85% 全氟紫外固化树脂：10%-30% 表面活性剂0.5%-5%光引发剂0.1-0.5%稳定剂：0.1-0.5%。根据以上配比配料，依次放入容器中加热并搅拌使之混合均匀，在30-40℃温度下稳定半小时，经0.2μm孔径过滤器过滤即得表面处理剂。将其喷涂于压印光刻胶表面做表面处理剂。本发明制得的表面处理剂能够有效的降低光刻胶表面能，以达到顺利脱模、减少缺陷、保护模板的目的。

主权项

一种纳米压印光刻胶表面改性剂，其特征在于具有以下的组成成分及重量百分比：有机小分子溶剂           65%‑85%  全氟紫外固化树脂         10%‑30%  表面活性剂               0.5%‑5% 光引发剂                 0.1‑0.5% 稳定剂                   0.1‑0.5%所述的有机小分子溶剂，为乳酸乙酯、丁酮、环己酮、二丙酮醇、乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、乙二醇单丁醚中的任一种或几种的组合；所述的全氟紫外固化树脂为碳原子数目大于10而小于25的全氟丙烯酸酯、全氟环氧树脂、全氟乙烯基醚中的一种；所述的表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚、聚氧乙烯烷基胺、多醇表面活性剂中的任一种或几种的组合；所述的光引发剂，为2,2‑二乙氧苯乙酮、1‑羟基环己基苯乙酮、对异丙基苯基‑2‑羟基二甲基丙酮‑1、二苯甲酮、2‑氯化硫杂蒽酮、4‑苯基二苯甲酮、2,4二甲基硫杂蒽酮、9,10‑菲醌、双甲基氨‑对氧氮环丁酮中的任一种或几种的组合；    所述的稳定剂，为二苯甲酮类、苯并三唑类、水杨酸芳香酯类、苯甲酸酯类稳定剂的任一种或几种的组合。