发明名称 |
内串式金属化膜直流高压电容器 |
摘要 |
本实用新型公开了一种内串式金属化膜直流高压电容器,包括配对金属化膜,所述配对金属化膜包括层叠设置的上膜和下膜,上膜镀设有金属化膜一和金属化膜二,下膜镀设有金属化膜三,所述金属化膜一和所述金属化膜二之间、以及多个所述金属化膜二之间均设置有间隙一,两个或多个所述金属化膜二之间均设置有间隙二,所述间隙一与所述间隙二等宽,所述金属化膜二和所述金属化膜三等宽,且所述间隙一的中线与所述金属化膜三的中线对齐。本实用新型所述的内串式金属化膜直流高压电容器,具有体积小、耐超高压、低自感、低损耗、低等效串联电阻、可靠性高、长寿命的特点。 |
申请公布号 |
CN203521176U |
申请公布日期 |
2014.04.02 |
申请号 |
CN201320600943.9 |
申请日期 |
2013.09.27 |
申请人 |
安徽赛福电子有限公司 |
发明人 |
曹骏骅;谢兴明 |
分类号 |
H01G4/33(2006.01)I;H01G4/38(2006.01)I |
主分类号 |
H01G4/33(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种内串式金属化膜直流高压电容器,其特征是,包括配对金属化膜,所述配对金属化膜包括层叠设置的上膜和下膜,所述上膜镀设有平行的矩形金属化膜一(M1)和矩形金属化膜二(M2),所述下膜镀设有平行于所述金属化膜一(M1)的矩形金属化膜三(M3),所述金属化膜一(M1)为两个且位于所述上膜的两侧,所述金属化膜二(M2)为一个或多个,所述金属化膜三(M3)为至少两个;所述金属化膜一(M1)和所述金属化膜二(M2)之间、以及多个所述金属化膜二(M2)之间均设置有间隙一(L2),两个或多个所述金属化膜二(M2)之间均设置有间隙二(L3);所述间隙一(L2)与所述间隙二(L3)等宽,所述金属化膜二(M2)和所述金属化膜三(M3)等宽,且所述间隙一(L2)的中线与所述金属化膜三(M3)的中线对齐。 |
地址 |
244000 安徽省铜陵市狮子山区栖凤路1771号 |