发明名称 内串式金属化膜直流高压电容器
摘要 本实用新型公开了一种内串式金属化膜直流高压电容器,包括配对金属化膜,所述配对金属化膜包括层叠设置的上膜和下膜,上膜镀设有金属化膜一和金属化膜二,下膜镀设有金属化膜三,所述金属化膜一和所述金属化膜二之间、以及多个所述金属化膜二之间均设置有间隙一,两个或多个所述金属化膜二之间均设置有间隙二,所述间隙一与所述间隙二等宽,所述金属化膜二和所述金属化膜三等宽,且所述间隙一的中线与所述金属化膜三的中线对齐。本实用新型所述的内串式金属化膜直流高压电容器,具有体积小、耐超高压、低自感、低损耗、低等效串联电阻、可靠性高、长寿命的特点。
申请公布号 CN203521176U 申请公布日期 2014.04.02
申请号 CN201320600943.9 申请日期 2013.09.27
申请人 安徽赛福电子有限公司 发明人 曹骏骅;谢兴明
分类号 H01G4/33(2006.01)I;H01G4/38(2006.01)I 主分类号 H01G4/33(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种内串式金属化膜直流高压电容器,其特征是,包括配对金属化膜,所述配对金属化膜包括层叠设置的上膜和下膜,所述上膜镀设有平行的矩形金属化膜一(M1)和矩形金属化膜二(M2),所述下膜镀设有平行于所述金属化膜一(M1)的矩形金属化膜三(M3),所述金属化膜一(M1)为两个且位于所述上膜的两侧,所述金属化膜二(M2)为一个或多个,所述金属化膜三(M3)为至少两个;所述金属化膜一(M1)和所述金属化膜二(M2)之间、以及多个所述金属化膜二(M2)之间均设置有间隙一(L2),两个或多个所述金属化膜二(M2)之间均设置有间隙二(L3);所述间隙一(L2)与所述间隙二(L3)等宽,所述金属化膜二(M2)和所述金属化膜三(M3)等宽,且所述间隙一(L2)的中线与所述金属化膜三(M3)的中线对齐。
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