用于蚀刻腔室部件的填充聚合物组成

摘要

本发明揭示了一种具有改良抗等离子体性的填充聚合物组成。该组成包括分散于聚合物基质的粒子填充料。该粒子填充料可为五氧化二铌(Nb2O3)、三氟化钇(YF3)、氮化铝(AlN)、碳化硅(SiC)或四氮化三硅(Si3N4)及稀土族元素氧化物(rare earth oxide)。在实施例中，利用该组成作为用于静电夹头的接合粘合剂，用于喷头的接合粘合剂，用于衬垫的接合粘合剂、密封材料、O形环、或塑料部件。

主权项

一种蚀刻腔室部件，其包含：聚合物基质；粒子填充料，其分散于该聚合物基质中；其中该粒子填充料选自由以下各者所组成的群组：Nb2O3、YF3、稀土族元素氧化物及其组合，并且该蚀刻腔室部件为O形环的形式或者阴极绝缘体的形式。