发明名称 一种有源相控阵天线结构公差的快速确定方法
摘要 本发明属于雷达天线技术领域,具体涉及一种有源相控阵天线结构公差的快速确定方法,其步骤是:步骤1,确定天线阵面辐射单元信息;步骤2,获取阵面辐射单元的高度误差;步骤3,获取阵面辐射单元的位置安装误差;步骤4,计算天线口面相位误差;步骤5,计算天线远区电场分布;步骤6,计算天线相关的电性能参数;步骤7,依据战术技术指标要求,判断计算出当前结构公差条件下的天线电性能是否满足要求,若不满足要求,则进行步骤8和步骤9;若满足要求,则直接转到步骤10;当前的辐射单元的位置与高度公差就是所快速确定的天线结构公差。它有效解决在难以快速确定与分配天线结构公差的问题。
申请公布号 CN102708257B 申请公布日期 2014.04.02
申请号 CN201210162446.5 申请日期 2012.05.23
申请人 西安电子科技大学 发明人 王从思;康明魁;段宝岩;王伟;徐慧娟;王猛;黄进;保宏;朱敏波;陈光达
分类号 G06F17/50(2006.01)I 主分类号 G06F17/50(2006.01)I
代理机构 西安吉盛专利代理有限责任公司 61108 代理人 张培勋
主权项 一种有源相控阵天线结构公差的快速确定方法,其特征是:至少包括如下步骤:步骤1,确定天线阵面辐射单元信息;步骤2,获取阵面辐射单元的高度误差;步骤3,获取阵面辐射单元的位置安装误差;步骤4,计算天线口面相位误差;步骤5,计算天线远区电场分布;步骤6,计算天线相关的电性能参数;步骤7,依据战术技术指标要求,判断计算出当前结构公差条件下的天线电性能是否满足要求,若不满足要求,则进行步骤8和步骤9;若满足要求,则直接转到步骤10;步骤8,修改阵面平面度;步骤9,修改阵面安装精度,并重新进行步骤2至步骤7;步骤10,当前的辐射单元的位置与高度公差就是所快速确定的天线结构公差;所述的步骤1中确定天线阵面辐射单元信息包括如下步骤:1.1.获取天线长度Lx、宽度Ly、工作频率f与波长λ信息,获取阵面辐射单元的行数M、列数N和辐射单元在x、y方向上的间距dx,dy信息;阵面内辐射单元的编号为(i,j);1.2.将上述天线阵面辐射单元的信息按照行、列编号的顺序组成固定格式的数据文件。
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